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不锈钢网片蚀刻是什么？

蚀刻，通常也称化学蚀刻，也有人称为腐蚀。是指通过***显影工序，将产品的图形转移到金属钢片上，将要蚀刻的区域保护起来，不要的区域除去保护膜露出金属部分，再用化学水溶液达到腐蚀的作用，形成凹凸半刻或者镂空成型的效果。

蚀刻早期用做铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工。膨胀系数是膨胀－温度曲线的斜率，瞬时膨胀系数是特定温度下的斜率，两个温度之间的平均斜率是平均热膨胀系数。经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

为什么说支撑蚀刻不锈钢需求扩大和新开发材料批量生产的是生产技术的提高：

可以说更廉价和质量、性能优良的不锈钢生产技术及供应体制，确立了如高纯铁素体不锈钢和双相不锈钢等生产难度大的材料的批量生产技术，并对不锈钢市场的扩大发挥了巨大作用。我们有专门的样品样制工程组，能实现小批量产品的快速交货，同时品质又能得到保证。近十年来，世界不锈钢粗钢产量以年增长率5%的速度增长，中国的不锈钢生产设备***目前仍在继续，甚至出现了一家公司不锈钢板坯生产规模达到300万吨／年的可与日本总生产能力相匹敌的超大型不锈钢企业。另外印度也公布了大规模设备***计划，因此有必要对今后世界不锈钢的供需平衡，特别是对亚洲地区的供需平衡加以关注。

兴之扬蚀刻不锈钢网片小编给大家介绍什么是氮化硅的湿式蚀刻:

氮化硅可利用加热至180°C的磷酸溶液(85%)来进行蚀刻(5)。[1]型号321—除了因为添加了钛元素降低了材料焊锈蚀的风险之外其他性能类似304。其蚀刻速率与氮化硅的成长方式有关，以电浆辅助化学气相沉积方式形成之氮化硅，由于组成结构(SixNyHz相较于Si3N4)较以高温低压化学气相沉积方式形成之氮化硅为松散，因此蚀刻速率较快许多。

但在高温热磷酸溶液中光阻易剥落，因此在作氮化硅图案蚀刻时，通常利用二氧化硅作为屏蔽。一般来说，氮化硅的湿式蚀刻大多应用于整面氮化硅的剥除。对于有图案的氮化硅蚀刻，还是采用干式蚀刻为宜。

金属蚀刻的加工过程:

1，金属蚀刻工艺流程一：

每件金属钣，上下两面，均要干净，除油，因为任何不洁表面均影响黏膜贴在金属之可靠性。

清洁后之金属两面再贴上干膜，(Photo-resist)(此光反应材料***于某光波段之光线中会塑性化，并产生对无机体溶液如酸液类防蚀作用)。

2，金属蚀刻流程之二：***

然后，双面蚀刻金属钣需小心夹放于两层照相负片(光工具)中，而单面蚀刻则需放于光工具之下。首先，要知道为什么会出现这种情况，出现这种情况的原因是什么呢。利用加压或抽真空把之夹紧，存放在适当光线中***，此举令曝露之黏膜塑化，黏膜对化学光(ActinicLight)是有反应，惟在***光线，反应甚微，***时间长短视乎光源强弱，黏膜剂种类等因素而定。

光工具工艺从用放大倍数比例绘制图案草稿开始，把尺寸准确校正，再缩回原比例，此举为便于控制尺寸精度，根据图样制造一底一面负片，再把金属钣牢牢夹于其中，若工件尺寸细小，要求在特定面积金属钣上蚀出若干件数时，可采用重迭排放机把影像重复摄制在负片上。不锈钢的耐腐蚀性取决于铬，但是因为铬是钢的组成部分之一，所以保护方法不尽相同。至于上下负片如何保证校正影像，便是此工艺之窍门。

3，金属蚀刻之三：显影冲洗

影像显影工作是通过浸涤或涂喷特定显影剂，显影剂把***部份之黏膜溶解，剩下塑化部份。

4，金属蚀刻之四：烘干：显影后之金属钣经第二次烘干。

5，金属蚀刻之五：蚀刻　　金属板放入蚀刻机中把显影后露出金属之部份蚀刻，干膜部份受保护，不获蚀刻。此工序是整个生产制程是重要的工序之一。

腐蚀剂有多种种类，例如氯化铁，HF和水之混合物便是应付钢和合金铜的腐蚀剂，某些金属是需用碱性的腐蚀剂。

金属蚀刻的缺陷：当金属面受蚀刻时，其黏膜边位置亦会稍微凹陷，故蚀刻出来之剪切边并不是百分一百垂直的。电阻率按碳钢、铁素体型、马氏体型和奥氏体型不锈钢方钢排序递增。所以蚀刻后之尺寸是跟影像尺寸略有些微差别，外围尺寸缩而内围尺寸扩大，内尖角位置是会变成小圆角，这些毛病是要经过矫正后方后达至预期之精密度，另外矫正尺寸变化亦可在预留图案草稿中进行。当然，重要因素还是倚靠累积经验，才能控制准确精密度。

6，金属蚀刻工艺流程之六：剥脱、清洗、晒干

清除蚀刻后钢片上的干膜，清洗再烘干，整个蚀刻工艺流程完成！